在鍍鉻溶液中，三價鉻的含量保持在一定的范圍內(nèi)是十分必要的，如果鍍液中不存在三價鉻，就難以獲得理想的鍍層，因為三價鉻既是形成陰極表面堿式鉻酸鹽的成份，又能與硫酸根引成陽絡(luò)離子以溶解陰極膜。

      當三價鉻含量低時，鍍液分散能力差，光澤不良，鍍層清洗性差。如三價鉻含量過高，生成的膠體膜很致密，鉻層的光亮范圍狹窄，鍍層的顏色變暗。當三價鉻的含量持續(xù)增高時，溶液粘度增高，導(dǎo)電率降低，槽電壓增高。因而，三價鉻含量過高或過低，對鍍層都有影響。一般鍍鉻溶液中應(yīng)含有三價鉻2～5g／L。當鍍鉻溶液出現(xiàn)三價鉻的含量過低或過高時，一般可采取以下方法調(diào)整。

     1、電解法調(diào)整三價鉻

     三價鉻的穩(wěn)定性在很大程度上決定于陽極電流密度與陰極電流密度之比。一般陽極面積應(yīng)比陰極面積大2倍左右。經(jīng)常鍍內(nèi)孔工件的槽液，三價鉻容易增多，這時可用小陰極、大陽極電解處理的方法，使Cr3+氧化為Cr6+。具體辦法是用一根鐵棒做陰極，而陽極面積要大于陰極面積10～30倍，陽極電流密度1.5～2A／dm2為宜。在陽極面積(dm2)﹕陰極面積(dm2)=30:1，陽極活性狀態(tài)下，陽極電流密度為2A/dm2下，每電解1h可減少三價鉻0.2g/L左右。

     2、用雙氧水處理三價鉻

     用雙氧水提高三價鉻或降低三價鉻的方法，都要把握一個度，使用得體雙氧水是能夠達到目的，反之會起到相反的目的。雙氧水在鍍鉻液內(nèi)即是氧化劑也是還原劑，使用雙氧水提高或者降低三價鉻含量，必須在特定條件下才能達到預(yù)期目的。

   （1）用雙氧水降低三價鉻的方法

將鍍液內(nèi)多余的三價鉻氧化成六價鉻，也就是降低了三價鉻含量。其條件為：鍍液溫度50～60℃，陰極:陽極=1:4.5，陽極電流密度=1～2A/dm2，在此條件下，每1ml雙氧水（30%）能氧化三價鉻0.8g。

   （2）用雙氧水提高三價鉻的方法

     將鍍液內(nèi)部分六價鉻還原成三價鉻，也就是提高了三價鉻含量。其條件為：鍍液必須是靜態(tài)（非電解），溫度必須是室溫，雙氧水必須經(jīng)過稀釋，在此條件下，每10ml雙氧水（3%）能還原（提高）三價鉻  3g。雙氧水不經(jīng)稀釋也可以，只是還原的三價鉻比經(jīng)過稀釋的濃度略低，同樣是10ml雙氧水（30%）還原（提高）三價鉻 2.5g。同樣，鍍液加溫后用雙氧水還原三價鉻也要比不加溫的略低，如在液溫50℃下同是10ml雙氧水（30%）還原（提高）三價鉻 2g，而在液溫30℃時卻能還原2.5g。為什么會這樣呢？原因是高濃度的雙氧水在高溫下加速自身水解而損耗一部分，沒有完全徹底參與反應(yīng)，才會導(dǎo)致兩種條件下的不同結(jié)果。

    由上不難看出，用雙氧水處理三價鉻，其中最重要的一個特定條件就是鍍液是在電解下還是非電解下，至于其它條件都是次要的，無非就是影響三價鉻的濃度而已，但最終還是可以達到目的。

    在生產(chǎn)中要控制三價鉻含量不致過高，也要控制SO42-不能太高，陽極面積一般應(yīng)為陰極面積的兩倍。

     3、其它方法處理三價鉻

     在新配鍍鉻溶液時，也可以使用化學(xué)還原法，如添加適量的乙醇、草酸、酒石酸或蔗糖等還原產(chǎn)生三價鉻，作為現(xiàn)場控制的手段，仍不失為一種最簡便有效的方法。

     ⑴0.8g/l食糖可還原三價鉻4g/L左右；

     ⑵草酸2.5g/L還原1g/L六價鉻生成三價鉻；用草酸還原三價鉻的化學(xué)反應(yīng)式如下：

      2CrO3+3(COOH)2→Cr2O3+6CO2↑+3H2O

      ⑶加入葡萄糖0.5g/L可還原三價鉻1g/L。

      ⑷1g高錳酸鉀可氧化0.5485g三價鉻為六價鉻。